Quais são as classificações das máquinas de revestimento iônico a vácuo- Ningbo Honyu Vacuum Technology Co., Ltd.

Dentro máquina de revestimento a vácuo é amplamente utilizado na vida, porque não é poluente, tem as vantagens de velocidade de deposição rápida, alta taxa de ionização, grande energia de íons, operação de equipamentos simples, baixo custo, etc., por isso é amado por muitas empresas, então seu vácuo Qual é o princípio do revestimento iônico da máquina de revestimento? Deixe-me apresentar a você em detalhes:

As películas são preparadas em vácuo, incluindo revestimento de metal cristalino, semicondutor, isolante e outras películas elementares ou compostas. Embora a deposição de vapor químico também use métodos de vácuo, como pressão reduzida, baixa pressão ou plasma, o revestimento a vácuo geralmente se refere à deposição de filmes finos por métodos físicos. Existem três formas de revestimento a vácuo, ou seja, revestimento por evaporação, revestimento por pulverização e revestimento iônico.

O revestimento iônico é o uso de descarga de gás ou ionização parcial de substâncias evaporadas em uma câmara de vácuo e, ao mesmo tempo que o bombardeio de íons de gás ou partículas de substâncias evaporadas, as substâncias ou reagentes evaporados são depositados no substrato. O revestimento iônico combina organicamente o fenômeno de descarga incandescente, tecnologia de plasma e evaporação a vácuo, o que não apenas melhora significativamente a qualidade do filme, mas também expande a faixa de aplicação de filmes finos. Suas vantagens são a forte adesão do filme, boa difração e uma ampla variedade de materiais de filme. Existem muitos tipos de revestimento de íons, e os métodos de cura de fontes de evaporação incluem aquecimento por resistência, aquecimento por feixe de elétrons, aquecimento por feixe de elétrons de plasma, aquecimento por indução de alta frequência, etc.

No entanto, o revestimento iônico multi-arco é muito diferente do revestimento iônico geral. O revestimento iônico multi-arco usa descarga de arco em vez da descarga incandescente do revestimento iônico tradicional para deposição. Simplificando, o princípio do revestimento iônico multi-arco é usar o alvo do cátodo como fonte de evaporação e, através da descarga do arco entre o alvo e o invólucro do ânodo, o material do alvo é evaporado, formando assim um plasma no espaço e depositando o substrato.